應(yīng)用需求與挑戰(zhàn)
在掩模版檢測中,任何細(xì)微缺陷都可能在光刻過程中被成倍放大,影響整個芯片批次的質(zhì)量。相機不僅要具備極致的分辨率和精細(xì)的對比度還原能力,還需要適配深紫外甚至極紫外波段的光學(xué)成像,以滿足特殊檢測環(huán)境的需求。同時,掩模檢測要求高度穩(wěn)定和長期一致的性能,確保檢測結(jié)果的可靠性和可重復(fù)性。
典型相機推薦
Gemini 8KTDI
深紫外高速TDI-sCMOS相機
193 nm 位于 DUV(100–200 nm)深紫外波段,是光刻環(huán)節(jié)的核心光源(ArF 準(zhǔn)分子激光),在 20 nm 及更先進工藝中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。在檢測環(huán)節(jié),193 nm 被廣泛用于掩膜版缺陷檢測與光刻膠圖形驗證,可揭示亞微米甚至納米級缺陷,從而實現(xiàn)高精度工藝監(jiān)控。
Gemini 8KTDI在 193?nm 波段的響應(yīng)能力已通過相關(guān)實驗室驗證。憑借 18 年在高信噪比成像、高速數(shù)據(jù)傳輸以及特殊波長極限探測技術(shù)的深厚積累,鑫圖成為國內(nèi)極少數(shù)能夠支持 193?nm 深紫外(DUV)高光子能量科研與檢測應(yīng)用的專業(yè)相機供應(yīng)商。


2025-09-12縮略圖-300x127.png)
